Diffraction de rayons X multi-techniques (DRX)
Diffractomètre multi-configuration à anode tournante « Smartlab » RIGAKU
2 diffractomètres multi-configuration à tube scellé « XPert Pro MRD » PANalytical
Figure de pôle GaN 10-10 permettant de déterminer la relation d’orientation cristallographique de nanofils de GaN épitaxiés sur susbtrat de Si (001) – étude C2N
Cartographie de l’espace réciproque autour des diffractions 004 et 115 d’une structure GaMnAs/InGaAs/GaAs permettant de quantifier les contraintes et compositions des alliages. La couche de GaMnAs est contrainte sur la couche d’InGaAs relaxée plastiquement sur le substrat de GaAs. La déformation en tension de la couche de GaMnAs permet d’avoir une aimantation perpendiculaire à la surface.